星利达光电材料有限公司

CMP精抛布（7355-000FE） 物性说明： 品名 (ARTICLE NO)： CMP精抛阻尼布 用途 (FOR USES) ： CMP 物理性质各项参数 ( PHYSICAL PROPERTIES ) 项目 重量 厚度 密度 压缩率 弹性率 硬度 绒长 开口径 单位 g/m2 mm g/m3 % % Asker C μm μm 测定值 539 1.54 0.35 2.9 70 60 570 50 (物理性质数据只是测定数值，不作为规格数值。) (The above is not standard, but measured figures.) 产品特点: v 材料的亲水性: 采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,对于抛光液的濡湿性(亲水性）出众. v 基层纤维厚度的均一性: 抛光压力及抛光液的流动量均一 v 起泡的泡囊长度均一性: 抛光压力及抛光液的流动量均一以及抛光效率的均一性高 v 起泡的泡囊形状均一性: 抛光液的含量均一,因此抛光效率均一性高 v 起泡的泡囊的开口口径均一性: 抛光效率均一性高 v 基层材料采用微细纤维,厚度均一性及压力均一性都优越，抛光效率高 v 绒毛长度更长,良好的亲水性和抛光液流动率,通过减薄工艺,更好保持抛光后的面型精度 v 兼容性好,蓝宝石,水晶,晶片的精抛光用 CMP抛光布广泛应用于硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓（GaAs）、蓝宝石、水晶等粗抛以及精密抛光。日本的信越半导体（硅片）、京瓷（蓝宝石）、并木（蓝宝石）、俄罗斯MonoCrystal（蓝宝石）、等多家公司都在使用该抛光布。